簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果:共4筆資料 檢索策略: "林顯群".cadvisor (精準) and ckeyword.raw="模擬分析"


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    1

    渦流產生器應用於半導體製程管路系統之廢氣排除模擬分析
    • 機械工程系 /108/ 碩士
    • 研究生: 楊舜丞 指導教授:
    • 本研究探討渦流產生器應用於3吋垂直式的半導體廢氣排放管路,藉由CFD軟體Fluent執行流場模擬,將計算結果製作圖表以便觀察其流場缺失;並依動態光散射儀(Dynamic Light Scatteri…
    • 點閱:228下載:0
    • 全文公開日期 2025/02/07 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

    2

    垂直式爐管內氣體噴注器的噴霧均勻優化之數值模擬分析
    • 機械工程系 /106/ 碩士
    • 研究生: 蔡東嶧 指導教授:
    • 爐管為半導體產業常使用的製程設備,其良率為重要之技術指標,因此本研究針對垂直式爐管進行流場數值模擬,評估氣體噴注器的流量對於製程良率所產生的影響,藉由晶圓薄膜厚度之實測比對,找出氣體噴注器的出口流量…
    • 點閱:392下載:24

    3

    高速離心式壓縮機的數值模擬分析
    • 機械工程系 /105/ 碩士
    • 研究生: 吳建成 指導教授:
    • 冷凍空調設備需要長時間的運作,所以效能、效率、壽命、噪音都是評比一台設備好壞的指標性項目,本研究以此論點進行探討,利用套裝模擬軟體進行輔助設計,期望先從理論進行理解並建構出一套高效率的模擬方法;最後…
    • 點閱:238下載:5

    4

    垂直式爐管之流場均勻化改良的數值模擬分析
    • 機械工程系 /104/ 碩士
    • 研究生: 邱義萱 指導教授:
    • 爐管為半導體產業經常使用的製程設備,其產能及良率為半導體市場之技術指標,因此本研究提出8吋垂直式爐管之流場數值模擬,評估流場對於氧化製程所產生的影響,再藉由實驗結果的比對,找出流場與良率的相關性,在…
    • 點閱:426下載:8
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